คำสั่งซื้อใหม่ของ ASML ไม่ควรถูกตัดสินจากตัวเลขพาดหัวเพียงอย่างเดียว จำเป็นต้องแยกออกเป็น EUV, DUV, High-NA EUV และการจัดการฐานเครื่องที่ติดตั้งแล้ว EUV สะท้อนการขยายตัวในลอจิกขั้นสูงและ DRAM ระดับแนวหน้า DUV สะท้อนอุปสงค์ของโหนด成熟, พลวัตระดับภูมิภาค และข้อจำกัดด้านการส่งออก High-NA EUV มีลักษณะเหมือนตัวเลือกทางเทคโนโลยีสำหรับโหนดรุ่นถัดไปมากกว่า ขณะที่รายได้จากบริการและการอัปเกรดเป็นตัวกำหนดความยืดหยุ่นของวัฏจักร หากคุณกำลังติดตามปฏิกิริยาของหุ้น ASML คุณจำเป็นต้องพิจารณาส่วนผสมของคำสั่งซื้อ จังหวะเวลาการส่งมอบ ปัจจัยขับเคลื่อนอัตรากำไรขั้นต้น และช่องว่างระหว่างผลประกอบการกับความคาดหวังของตลาด
มูลค่าคำสั่งซื้อใหม่รวมของ ASML แสดงเพียงเจตนาในการซื้อของลูกค้าเท่านั้น ไม่ได้เปิดเผยคุณภาพของรายได้โดยตรง สิ่งที่คุณจำเป็นต้องรู้จริงๆ คือคำสั่งซื้อมาจาก EUV, DUV, High-NA EUV หรืองานบริการและอัปเกรดสำหรับฐานเครื่องที่ติดตั้งอยู่แล้ว เพราะแต่ละหมวดแตกต่างกันในด้านประเภทลูกค้า โหนดกระบวนการ ราคาต่อหน่วย อัตรากำไรขั้นต้น รอบเวลาส่งมอบ และข้อจำกัดการส่งออก ยิ่งสัดส่วนคำสั่งซื้อเอียงไปทางกระบวนการขั้นสูงและรายได้จากบริการคุณภาพสูงมากเท่าใด มูลค่าระยะยาวของมันก็มักยิ่งแข็งแกร่งมากขึ้นเท่านั้น
ASML รายงานยอดขายสุทธิรวม €9.326 พันล้าน ในไตรมาสที่สองของปี 2026 โดยมีอัตรากำไรขั้นต้น 54.0% และกำไรสุทธิ €2.918 พันล้าน บริษัทได้ปรับเพิ่มคาดการณ์ยอดขายสุทธิทั้งปี 2026 เป็น €43 พันล้าน–€45 พันล้าน และคาดการณ์อัตรากำไรขั้นต้นเป็น 54%–56% ตัวเลขเหล่านี้แข็งแกร่ง แต่การทำความเข้าใจ ASML จำเป็นต้องมองให้ลึกกว่าข้อสรุประดับผิวเผินที่ว่ารายได้สูงกว่าคาด
มีช่องว่างด้านเวลาระหว่างคำสั่งซื้อและรายได้ของ ASML ในการเปิดเผยข้อมูลไตรมาสที่สี่ของปี 2025 บริษัทอธิบายว่ายอดจองสุทธิรวมถึงคำสั่งซื้อระบบที่ได้รับการอนุมัติเป็นลายลักษณ์อักษรแล้ว พร้อมการปรับที่เกี่ยวข้องกับเงินเฟ้อ Backlog หมายถึงคำสั่งซื้อระบบที่ได้รับอนุมัติแล้วแต่ยังไม่ได้รับรู้เป็นยอดขายสุทธิรวม กล่าวอีกนัยหนึ่ง คำสั่งซื้อแสดงถึงรายได้ในอนาคตที่อาจเกิดขึ้น ยอดขายแสดงถึงระบบที่ส่งมอบแล้วและเป็นไปตามเงื่อนไขการรับรู้รายได้ และ backlog แสดงถึงแหล่งรายได้ที่ยังไม่เกิดขึ้นจริง
คุณสามารถทำความเข้าใจโครงสร้างคำสั่งซื้อของ ASML ได้ผ่านสี่ชั้น:
| เมตริก | สิ่งที่แสดงถึง | ผลกระทบต่อรายได้ | ผลกระทบต่อการประเมินมูลค่า | ความเสี่ยงหลัก |
|---|---|---|---|---|
| คำสั่งซื้อ EUV | การขยายกำลังการผลิตโหนดขั้นสูง | ราคาต่อหน่วยสูง วงจรยาว | เพิ่มความคาดหวังต่อการเติบโตระยะยาว | จังหวะเวลาการขยายตัวของลูกค้า |
| คำสั่งซื้อ DUV | ความต้องการโหนด成熟และเลเยอร์ที่ไม่สำคัญ | ปริมาณต่อหน่วยสูง ครอบคลุมกว้าง | สนับสนุนความยืดหยุ่นของรายได้ | ข้อจำกัดการส่งออก วัฏจักร |
| คำสั่งซื้อ High-NA EUV | การนำโหนดรุ่นถัดไปมาใช้ | ไม่มั่นคงในระยะสั้น ราคาต่อหน่วยสูง | เสริมความได้เปรียบด้านเทคโนโลยี | การนำไปใช้ช้า วงจรการยอมรับ |
| การจัดการฐานที่ติดตั้ง | บริการและตัวเลือกภาคสนาม | มีเสถียรภาพมากขึ้น คุณภาพมาร์จิ้นแข็งแกร่งขึ้น | ปรับปรุงคุณภาพรายได้ | การใช้เครื่องมือของลูกค้า |
เหตุผลสำคัญประการหนึ่งที่ผลประกอบการไตรมาสสองของ ASML สูงกว่าคาด ไม่ใช่เพียงการส่งมอบระบบใหม่เท่านั้น แต่ยังเป็นยอดขาย การจัดการฐานที่ติดตั้ง ที่แข็งแกร่งกว่าคาดด้วย ASML นิยามหมวดหมู่นี้ว่าเป็นยอดขายสุทธิจากบริการและตัวเลือกภาคสนาม ซึ่งมาจากการบำรุงรักษา การอัปเกรด และการปรับปรุงประสิทธิภาพของเครื่องมือที่มีอยู่ และโดยปกติจะช่วยทำให้วัฏจักรอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ราบรื่นกว่ายอดขายระบบแบบครั้งเดียวสรุป: วิธีที่ถูกต้องในการอ่านคำสั่งซื้อใหม่ของ ASML ไม่ใช่การสันนิษฐานว่า “ยิ่งมากยิ่งดีเสมอ” แต่คือการระบุว่าคำสั่งซื้อมาจากอุปกรณ์ประเภทใด สอดคล้องกับลูกค้ารายใดและโหนดกระบวนการใด สามารถส่งมอบได้เมื่อใด และสามารถรับรู้เป็นรายได้ได้หรือไม่ EUV อธิบายอุปสงค์ระยะยาวของโหนดขั้นสูงได้ดีกว่า DUV อธิบายอุปสงค์ของโหนดรุ่นเก่าและความยืดหยุ่นของคำสั่งซื้อในแต่ละภูมิภาคได้ดีกว่า High-NA EUV ใกล้เคียงกับสิทธิเลือกในโรดแมปเทคโนโลยีถัดไปมากกว่า ขณะที่ Installed Base Management เป็นตัวกำหนดคุณภาพรายได้และเสถียรภาพของอัตรากำไรขั้นต้น การนำตัวเลขคำสั่งซื้อพาดหัวกลับไปวางในส่วนผสมผลิตภัณฑ์ ส่วนผสมลูกค้า และรอบการส่งมอบเท่านั้น จึงจะทำให้คุณตัดสินได้ว่าการเติบโตของ ASML สะท้อนการเติมสินค้าคงคลังระยะสั้น การขยายตัวของโหนดรุ่นเก่า หรือการปรับเพิ่มงบลงทุนจริงในโหนดขั้นสูง
EUV คือส่วนหนึ่งของธุรกิจ ASML ที่สะท้อนคูเมืองทางเทคโนโลยีและอุปสงค์ของโหนดขั้นสูงได้ดีที่สุด หากคำสั่งซื้อและรายได้ EUV ยังคงแข็งแกร่งขึ้น โดยทั่วไปบ่งชี้ว่า TSMC, Samsung, Intel และลูกค้าหน่วยความจำชั้นนำกำลังเดินหน้าขยายกำลังการผลิตสำหรับลอจิกขั้นสูง ชิป AI และ DRAM ระดับไฮเอนด์ อย่างไรก็ตาม คุณยังต้องแยกความแตกต่างระหว่าง Low-NA EUV และ High-NA EUV เพราะแบบแรกใกล้เคียงกับรายได้จากการผลิตจำนวนมากในปัจจุบันมากกว่า ขณะที่แบบหลังผูกพันกับการนำโหนดในอนาคตมาใช้มากกว่าระบบ ลิโทกราฟี EUV ของ ASML ใช้แหล่งกำเนิดแสงอัลตราไวโอเลตสุดขั้วขนาด 13.5nm เพื่อพิมพ์ลวดลายที่ซับซ้อนและละเอียดซึ่ง DUV ทำได้ยาก ASML ระบุว่าระบบ NXE ของบริษัทถูกใช้ในการผลิตชิปตรรกะและหน่วยความจำขั้นสูงในปริมาณมาก รองรับเลเยอร์สำคัญสำหรับโหนด 7nm, 5nm, 3nm และโหนดที่เกี่ยวข้อง สำหรับนักลงทุน รายได้จาก EUV ที่แข็งแกร่งขึ้นมักหมายถึงความตั้งใจในการขยายตัวที่แข็งแกร่งขึ้นในตรรกะขั้นสูง ตัวเร่ง AI และ DRAM ระดับแนวหน้า
อย่างไรก็ตาม ไม่ใช่ทุกเลเยอร์ในชิปขั้นสูงจะใช้ EUV แม้แต่ในกระบวนการที่เกี่ยวข้องกับโหนด 3nm หรือ 2nm ก็ยังใช้ทั้ง EUV และ DUV อยู่ EUV จัดการเลเยอร์วิกฤตที่ซับซ้อนที่สุด ละเอียดที่สุด และมีมูลค่าสูงที่สุด ขณะที่ DUV ยังจัดการเลเยอร์ที่ไม่วิกฤตจำนวนมาก ดังนั้น EUV ที่แข็งแกร่งจึงส่งสัญญาณถึงความแข็งแกร่งในโหนดขั้นสูง แต่ไม่ได้หมายความว่าความต้องการ DUV จะหายไป
คุณสามารถประเมินคุณภาพรายได้จาก EUV ผ่านตัวชี้วัดห้าประการ:
| Indicator | What It Shows | Positive Signal | Risk Signal |
|---|---|---|---|
| คำสั่งซื้อ EUV | แผนการขยายตัวของลูกค้าขั้นสูง | คำสั่งซื้อซ้ำจากลูกค้าหลายราย | การกระจุกตัวอยู่ที่ลูกค้ารายเดียว |
| การจัดส่ง EUV | กำลังการผลิตและความสามารถของห่วงโซ่อุปทานของ ASML | การเติบโตของการจัดส่งที่มั่นคง | ความล่าช้าในการส่งมอบ |
| รายได้ EUV | คุณภาพของการแปลงคำสั่งซื้อเป็นรายได้ | รายได้และอัตรากำไรดีขึ้นพร้อมกัน | การรับรู้รายได้ล่าช้า |
| ส่วนผสมลูกค้า | การกระจายตัวระหว่างตรรกะขั้นสูงและ DRAM | ทั้งตรรกะและหน่วยความจำขยายตัว | การพึ่งพาลูกค้ารายเดียวมากเกินไป |
| บริการอัปเกรด | ประสิทธิภาพของเครื่องมือ EUV ที่ติดตั้งแล้ว | รายได้จากตัวเลือกภาคสนามเพิ่มขึ้น | การใช้งานลดลง |
จากมุมมองของราคาหุ้น EUV ที่แข็งแกร่งไม่ได้จำเป็นต้องนำไปสู่การปรับตัวขึ้นทันที เหตุผลนั้นเรียบง่าย: ตลาดอาจคาดการณ์ความต้องการโหนดขั้นสูงที่แข็งแกร่งไว้แล้ว และเครื่องมือ EUV มีรอบเวลาการส่งมอบที่ยาวนาน คำสั่งซื้ออาจต้องใช้เวลาหลายไตรมาสกว่าจะกลายเป็นรายได้ที่รับรู้ หากลูกค้าชะลอการขยายกำลังการผลิตเนื่องจากโรงงานผลิตชิป แหล่งจ่ายไฟ อัตราผลผลิต หรือการเปลี่ยนแปลงในแผนงานโหนด การแปลงคำสั่งซื้อของ ASML เป็นรายได้ก็อาจยืดออกไปได้เช่นกัน สรุป: EUV เป็นส่วนหนึ่งของโครงสร้างคำสั่งซื้อของ ASML ที่สะท้อนคุณภาพการเติบโตระยะยาวได้ดีที่สุด เพราะเชื่อมโยงโดยตรงกับตรรกะขั้นสูง ชิป AI และ DRAM ระดับแนวหน้า แต่คุณไม่ควรดูเพียงว่า คำสั่งซื้อ EUV กำลังเติบโตหรือไม่ คุณควรตรวจสอบสัดส่วนระหว่าง Low-NA EUV และ High-NA EUV ระยะเวลาการส่งมอบ กลุ่มลูกค้า การรับรู้รายได้ และอัตรากำไรขั้นต้นด้วย Low-NA EUV อธิบายรายได้ในช่วงหนึ่งถึงสองปีข้างหน้าได้ดีกว่า ขณะที่ High-NA EUV อธิบายพรีเมียมด้านเทคโนโลยีระยะยาวของ ASML ได้ดีกว่า หากคำสั่งซื้อ EUV แข็งแกร่ง ลูกค้ามีความหลากหลาย การส่งมอบมีเสถียรภาพ และการอัปเกรดบริการเพิ่มขึ้น ปัจจัยพื้นฐานระยะยาวของ ASML ก็จะได้รับการสนับสนุนมากขึ้น หากคำสั่งซื้อกระจุกตัวมากเกินไปหรือการส่งมอบล่าช้า หุ้นก็ยังอาจผันผวนได้ในระยะสั้น
DUV ดึงดูดความสนใจน้อยกว่า EUV แต่เป็นแหล่งสำคัญของความยืดหยุ่นด้านรายได้สำหรับ ASML DUV ครอบคลุมโหนดที่เติบโตเต็มที่แล้ว ชั้นที่ไม่สำคัญในชิปขั้นสูง ชิปยานยนต์ ชิปอุตสาหกรรม ชิปแอนะล็อก 3D NAND และอุปสงค์จากลูกค้าบางภูมิภาค ดังนั้น การเปลี่ยนแปลงในคำสั่งซื้อ DUV จึงสะท้อนทั้งการลงทุนในโหนดที่เติบโตเต็มที่แล้วทั่วโลก และอิทธิพลของสัดส่วนภูมิภาค ประเภทลูกค้า และข้อจำกัดการส่งออก
ASML อธิบายระบบลิโทกราฟี DUVของตนว่าเป็นอุปกรณ์พื้นฐานสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ครอบคลุมทั้งผลิตภัณฑ์แบบแห้งและแบบจุ่ม Immersion DUV เพิ่มชั้นน้ำระหว่างเลนส์กับเวเฟอร์เพื่อปรับปรุงความละเอียดและประสิทธิภาพการสร้างภาพ Dry DUV มีต้นทุนต่ำกว่าและครอบคลุมการใช้งานกว้างกว่า ทำให้เหมาะสำหรับหลายชั้นในโหนดที่เติบโตเต็มที่แล้ว รวมถึงโรงงานผลิตขนาด 200 มม. หรือ 300 มม.
DUV ยังคงมีความสำคัญด้วยเหตุผลสามประการ ประการแรก แม้แต่ชิปขั้นสูงที่ต้องใช้ EUV ก็ยังใช้ DUV สำหรับหลายชั้น ประการที่สอง กระบวนการที่เติบโตเต็มที่แล้วยังคงเป็นแกนหลักของชิปยานยนต์ อุตสาหกรรม การจัดการพลังงาน ไดรเวอร์จอภาพ แอนะล็อก และ IoT ประการที่สาม ลูกค้าจำนวนมากไม่ได้มุ่งสู่โหนดที่ล้ำหน้าที่สุดสำหรับทุกผลิตภัณฑ์ แต่ให้ความสำคัญกับต้นทุน กำลังการผลิต ความน่าเชื่อถือ และเสถียรภาพของอุปทานแทน
| ประเภท DUV | การใช้งานหลัก | ลักษณะรายได้ | ปัจจัยขับเคลื่อนความต้องการ | ความเสี่ยงหลัก |
|---|---|---|---|---|
| DUV แบบ Immersion | DRAM และบางเลเยอร์ในลอจิกขั้นสูง | ASP สูงกว่า, ข้อกำหนดทางเทคนิคเข้มงวดกว่า | หน่วยความจำและการสนับสนุนโหนดขั้นสูง | ข้อจำกัดการส่งออก, ความผันผวนตามวัฏจักร |
| DUV แบบ Dry | โหนดรุ่นเก่า, 200 มม./300 มม. | ปริมาณต่อหน่วยสูง, ครอบคลุมกว้าง | ยานยนต์, อุตสาหกรรม, ชิปแอนะล็อก | อุปทานส่วนเกินของโหนดรุ่นเก่า |
| การอัปเกรด DUV | การปรับปรุงประสิทธิภาพของเครื่องมือที่ติดตั้งแล้ว | รายได้จากบริการที่มีเสถียรภาพมากขึ้น | การใช้กำลังการผลิตของลูกค้า | การใช้กำลังการผลิตของโรงงานต่ำลง |
| ระบบที่ปรับปรุงใหม่ | เสริมกำลังการผลิตรุ่นเก่า | ราคาต่อหน่วยต่ำกว่า | ลูกค้าที่อ่อนไหวต่อราคา | ความยืดหยุ่นของอุปสงค์จำกัด |
ASML ยังกล่าวในไตรมาสที่สองด้วยว่า บริษัทมีแผนจะเพิ่มกำลังการผลิต DUV แบบ immersion ในปี 2027 ขึ้น 30% จากประมาณ 130 ระบบในปี 2026 และกำลังประเมินการเพิ่มขึ้นอีกประมาณ 30% ในปี 2028 สิ่งนี้บ่งชี้ว่า ASML ไม่ได้มองว่า DUV เป็นธุรกิจที่กำลังถดถอย แต่เป็นขีดความสามารถสนับสนุนที่สำคัญสำหรับ AI, หน่วยความจำ และการขยายตัวของโหนดรุ่นเก่าอย่างไรก็ตาม DUV ยังเป็นหมวดหมู่ที่ตีความผิดได้ง่ายที่สุดเช่นกัน DUV ที่แข็งแกร่งไม่ได้หมายความว่าความต้องการโหนดขั้นสูงจะแข็งแกร่งเสมอไป เพราะคำสั่งซื้ออาจมาจากการขยายกำลังการผลิตในโหนด mature-node การซื้อล่วงหน้าในบางภูมิภาค หรือการตอบสนองของลูกค้าต่อการเปลี่ยนแปลงกฎการส่งออก เรื่องนี้เกี่ยวข้องเป็นพิเศษกับอุปสงค์ที่เกี่ยวข้องกับจีน รัฐบาลเนเธอร์แลนด์ได้ขยาย มาตรการควบคุมการส่งออกอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง และ ASML ได้กล่าวว่าระบบ DUV immersion บางรุ่น TWINSCAN NXT:1970i และ 1980i ต้องมีใบอนุญาตส่งออกจากรัฐบาลเนเธอร์แลนด์ สหรัฐอเมริกายังคงปรับปรุง กฎการส่งออกสำหรับอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ อย่างต่อเนื่อง ทำให้ยิ่งจำเป็นต้องวิเคราะห์คำสั่งซื้อ DUV ตามภูมิภาค สำหรับคุณ คำถามสำคัญไม่ใช่เพียงว่าคำสั่งซื้อ DUV อยู่ในระดับสูงหรือไม่ แต่คือคำสั่งซื้อเหล่านั้นมาจากการสนับสนุน advanced-logic การขยาย DRAM การขยาย mature-node หรือการซื้อที่ถูกเร่งให้เกิดเร็วขึ้นจากความกังวลด้านนโยบายกันแน่สรุป: DUV เป็นหนึ่งในส่วนของโครงสร้างคำสั่งซื้อของ ASML ที่ถูกประเมินต่ำที่สุดและถูกตีความผิดได้ง่ายที่สุด มันไม่ได้สะท้อนโหนดขั้นสูงโดยตรงเท่ากับ EUV แต่ครอบคลุมหลายเลเยอร์ ลูกค้าหลายประเภท และตัวแปรตามภูมิภาคจำนวนมาก จึงช่วยให้รายได้มีความยืดหยุ่นอย่างมีนัยสำคัญ เมื่อวิเคราะห์ DUV คุณควรแยก DUV แบบ immersion, DUV แบบ dry, บริการอัปเกรด และคำสั่งซื้อตามภูมิภาคออกจากกัน ลูกค้าที่เกี่ยวข้องกับจีน การลงทุนในโหนดที่เติบโตเต็มที่แล้ว และข้อจำกัดด้านการส่งออก ล้วนสามารถส่งผลอย่างมีนัยสำคัญต่อเส้นทางรายได้ของ DUV ได้ DUV ที่แข็งแกร่งอาจส่งสัญญาณถึงอุปสงค์ในอุตสาหกรรมโดยรวมที่กว้างขึ้น แต่ก็อาจสะท้อนถึงการขยายโหนดที่เติบโตเต็มที่แล้ว หรือคำสั่งซื้อที่ถูกเร่งเข้ามาล่วงหน้าในภูมิภาคใดภูมิภาคหนึ่ง ดังนั้นส่วนผสมของลูกค้าและความชัดเจนในการส่งมอบจึงเป็นสิ่งจำเป็น
High-NA EUV เป็นปัจจัยขับเคลื่อนสำคัญของพรีเมียมด้านเทคโนโลยีในอนาคตของ ASML แต่ไม่ควรถูกมองว่าเป็นแหล่งรายได้หลักในระยะใกล้ คุณลักษณะของมันคือราคาต่อหน่วยสูง อุปสรรคทางเทคโนโลยีที่แข็งแกร่ง และมูลค่าเชิงกลยุทธ์สูง แต่การยอมรับใช้งานของลูกค้า การตรวจสอบความถูกต้องของกระบวนการ การเพิ่มกำลังการผลิต และการรับรู้รายได้ใช้เวลานานกว่า เมื่อประเมิน High-NA EUV สิ่งสำคัญไม่ใช่ว่ามีระบบกี่เครื่องที่ถูกรับรู้ในไตรมาสเดียว แต่คือลูกค้ากำลังเคลื่อนไปสู่การยอมรับใช้งานที่มั่นคงและการผลิตปริมาณมากหรือไม่ ความแตกต่างหลักระหว่าง High-NA EUV และ EUV มาตรฐานคือ numerical aperture ASML ระบุว่าแพลตฟอร์ม EXE เพิ่ม NA จาก 0.33 ในแพลตฟอร์ม NXE เป็น 0.55 โดยใช้แหล่งกำเนิดแสง EUV ขนาด 13.5nm เพื่อให้ได้คอนทราสต์ที่สูงขึ้นและความละเอียดประมาณ 8nm ค่า NA ที่สูงขึ้นหมายถึงความสามารถในการสร้างภาพที่แข็งแกร่งขึ้น ช่วยให้ลอจิกขั้นสูงในอนาคตและโหนด DRAM ระดับแนวหน้าสามารถย่อขนาดแพตเทิร์นต่อไปได้ในระดับผลิตภัณฑ์ TWINSCAN EXE:5200B ของ ASML คือระบบ EUV High-NA ค่า NA 0.55 รุ่นที่สอง ซึ่งออกแบบมาสำหรับการผลิตในปริมาณมากของโหนดลอจิกต่ำกว่า 2nm และโหนด DRAM ระดับแนวหน้า ASML ระบุว่าระบบนี้ให้คอนทราสต์ในการสร้างภาพสูงกว่าระบบ NXE และสามารถพิมพ์ฟีเจอร์ที่เล็กลงได้ในการเปิดรับแสงครั้งเดียว ช่วยลดความซับซ้อนของกระบวนการในการผลิตปริมาณมาก
| Value Layer | What to Monitor | Positive Signal | Risk Signal |
|---|---|---|---|
| มูลค่าด้านรายได้ | การส่งมอบและการรับรู้รายได้ | ลูกค้าหลายรายยอมรับเครื่องมือ | ความล่าช้าในการส่งมอบ |
| มูลค่าด้านเทคโนโลยี | การนำโหนดไปใช้ | ใช้งานต่ำกว่า 2nm | การเปลี่ยนแปลงเส้นทางกระบวนการ |
| มูลค่าด้านการประเมินมูลค่า | ส่วนเพิ่มจากการผูกขาดระยะยาว | ตลาดปรับเพิ่มความคาดหวังระยะยาว | ความคาดหวังสูงเกินไป |
| มูลค่าด้านอุตสาหกรรม | ความซับซ้อนของกระบวนการที่ลดลง | ขั้นตอน multi-patterning น้อยลง | ต้นทุนสูงเกินไป |
High-NA EUV เป็นการผสมผสานของสัญญาณสามประการ ในระยะสั้น มันเป็นสัญญาณของการขายระบบที่มี ASP สูงและความเชื่อมั่นของตลาด ในระยะกลาง มันขึ้นอยู่กับลอจิกต่ำกว่า 2nm, DRAM ระดับแนวหน้า และแผนงานโหนดของลูกค้า ในระยะยาว มันสะท้อนถึงความไม่สามารถถูกแทนที่ได้ของ ASML ในลิโทกราฟีรุ่นถัดไป หากลูกค้านำ High-NA ไปใช้อย่างรวดเร็ว ส่วนเพิ่มในการประเมินมูลค่าระยะยาวของ ASML ก็จะสนับสนุนได้ง่ายขึ้น หากการนำไปใช้ล่าช้า ความคาดหวังของตลาดต่อการเร่งเพิ่มกำลังการผลิต High-NA อย่างรวดเร็วอาจถูกปรับลดลงคุณควรหลีกเลี่ยงการตีความ High-NA EUV ว่าเป็น “การระเบิดของรายได้ครั้งต่อไปของ ASML” โดยอัตโนมัติด้วย ราคาต่อหน่วยที่สูงไม่ได้เท่ากับปริมาณการจัดส่งที่สูง ระบบในช่วงแรกอาจถูกใช้มากขึ้นสำหรับการวิจัยและพัฒนา การตรวจสอบความถูกต้องของกระบวนการ และการเรียนรู้ของลูกค้า มากกว่าการผลิตปริมาณสูงในทันที ลูกค้าบางรายอาจยังคงยืดอายุการใช้งานของ Low-NA EUV ร่วมกับการทำ multiple patterning เพื่อสร้างสมดุลระหว่างต้นทุน ผลผลิต และกำลังการผลิต สรุป: High-NA EUV เป็นตัวแปรหลักในความสามารถในการแข่งขันระยะยาวของ ASML แต่เป็นสัญญาณเกี่ยวกับโรดแมปเทคโนโลยีและคุณภาพรายได้ในอนาคตมากกว่าตัวเลขคำสั่งซื้อระยะสั้น คุณจำเป็นต้องติดตามการยอมรับของลูกค้า การจัดส่ง การยอมรับเครื่องจักร โรดแมปของโหนด และกำหนดการผลิตปริมาณสูง แทนที่จะมุ่งเน้นเพียงว่ามีการรับรู้ระบบหนึ่งหรือสองระบบในไตรมาสเดียวหรือไม่ หาก High-NA EUV เข้าสู่การยอมรับอย่างมั่นคงในหมู่ลูกค้าหลายราย พรีเมียมด้านเทคโนโลยีระยะยาวของ ASML จะมีความทนทานมากขึ้น หากลูกค้าชะลอการยอมรับหรือยังคงพึ่งพา Low-NA EUV ร่วมกับ multiple patterning รายได้จาก High-NA อาจต่ำกว่าความคาดหวังของตลาด ทำให้หุ้นอ่อนไหวต่อจังหวะเวลาการส่งมอบมากขึ้น
ในการตัดสินคุณภาพรายได้ของ ASML คุณจำเป็นต้องพิจารณา EUV, DUV, High-NA EUV, Installed Base Management, ส่วนผสมของลูกค้า และการเปลี่ยนแปลง guidance ร่วมกัน ชุดผสมที่เหมาะสมคือคำสั่งซื้อ EUV ที่แข็งแกร่ง, DUV ที่มั่นคง, การยอมรับ High-NA อย่างค่อยเป็นค่อยไป, รายได้ IBM ที่เพิ่มขึ้น, ฐานลูกค้าที่หลากหลาย และทัศนวิสัยการส่งมอบที่ดีขึ้น หากคำสั่งซื้อแข็งแกร่งเฉพาะในหมวดผลิตภัณฑ์หรือภูมิภาคเดียว ความเสี่ยงด้านราคาหุ้นมักจะสูงขึ้นส่วนผสมของคำสั่งซื้อส่งผลโดยตรงต่ออัตรากำไรขั้นต้น EUV และ High-NA EUV มีราคาต่อหน่วยสูงและมีอุปสรรคทางเทคโนโลยีที่แข็งแกร่ง แต่ต้นทุนการนำมาใช้ในระยะแรกก็สูงเช่นกัน DUV มีปริมาณหน่วยที่สูงกว่าและฐานผลิตภัณฑ์ที่เติบโตเต็มที่ โดยอัตรากำไรขึ้นอยู่กับส่วนผสมของผลิตภัณฑ์ ภูมิภาค และลูกค้า Installed Base Management รวมถึงบริการและตัวเลือกภาคสนาม และโดยปกติจะช่วยเพิ่มเสถียรภาพของรายได้ อัตรากำไรขั้นต้นไตรมาสที่สองของ ASML อยู่ที่ 54.0% และบริษัทได้ปรับเพิ่มคำแนะนำอัตรากำไรขั้นต้นทั้งปีเป็น 54%–56% ซึ่งหมายความว่าตลาดไม่ควรดูแค่การส่งมอบระบบเท่านั้น แต่ควรดูการอัปเกรดบริการ การกำหนดราคา และส่วนผสมของผลิตภัณฑ์ด้วย
| ส่วนผสมของคำสั่งซื้อ | ความหมาย | โดยปกติเป็นบวกต่อราคาหุ้น | สิ่งที่ต้องจับตา |
|---|---|---|---|
| EUV แข็งแกร่ง + IBM แข็งแกร่ง | กระบวนการขั้นสูงและบริการต่างแข็งแกร่ง | คุณภาพรายได้สูงขึ้น | มูลค่าประเมินสูงเกินไปแล้วหรือไม่ |
| EUV แข็งแกร่ง + DUV อ่อนแอ | ลูกค้าขั้นสูงแข็งแกร่ง ความต้องการโหนดที่เติบโตเต็มที่อ่อนแอ | เหตุผลระยะยาวดีขึ้น | แรงกดดันต่อปริมาณหน่วยระยะสั้น |
| DUV แข็งแกร่ง + EUV อ่อนแอ | ความต้องการกระบวนการที่เติบโตเต็มที่หรือความต้องการระดับภูมิภาคกำลังขับเคลื่อนคำสั่งซื้อ | ความยืดหยุ่นของรายได้ | คำถามเกี่ยวกับคุณภาพการเติบโต |
| High-NA แข็งแกร่ง + EUV มีเสถียรภาพ | โหนดรุ่นถัดไปกำลังเร่งตัว | พรีเมียมด้านเทคโนโลยีแข็งแกร่งขึ้น | รอบการรับรู้รายได้ |
| คำสั่งซื้อจากภูมิภาคเดียวแข็งแกร่ง | ความต้องการที่ขับเคลื่อนโดยลูกค้าเฉพาะรายหรือนโยบาย | คำสั่งซื้อระยะใกล้แข็งแกร่ง | ความยั่งยืนอ่อนแอ |
Biya คิดค่าคอมมิชชันเป็นศูนย์สำหรับการซื้อขายหุ้นสหรัฐฯ ค่าธรรมเนียมแพลตฟอร์มอยู่ที่ 0.005 ดอลลาร์ต่อหุ้น โดยมีขั้นต่ำ 0.99 ดอลลาร์ต่อคำสั่งซื้อ และสูงสุด 1% ของมูลค่าธุรกรรม ค่าธรรมเนียมสถาบันภายนอกและค่าธรรมเนียมกิจกรรมการซื้อขายรวมกันอยู่ที่ 0.00396 ดอลลาร์ต่อหุ้น สำหรับคำสั่งซื้อหุ้นเศษส่วนที่น้อยกว่าหนึ่งหุ้น ค่าธรรมเนียมแพลตฟอร์มคือ 1% ของมูลค่าธุรกรรม โดยจำกัดสูงสุดที่ 1 ดอลลาร์ ควรยืนยันค่าธรรมเนียมจริง คุณสมบัติของคำสั่งซื้อ และการปรับเปลี่ยนที่อาจเกิดขึ้นผ่าน ตารางค่าธรรมเนียมการซื้อขายหุ้นสหรัฐฯ ล่าสุด และจำนวนเงินที่แสดงก่อนส่งคำสั่งซื้อ เมื่อคำสั่งซื้อแข็งแกร่งแต่ราคาหุ้นปรับตัวลง มักมีคำอธิบายหลายประการ ประการแรก ตลาดอาจคาดหวังคำสั่งซื้อที่สูงกว่านี้ ดังนั้นผลลัพธ์จริงจึงเป็นเพียง “ไม่ได้แย่กว่า” ประการที่สอง การส่งมอบ High-NA EUV และการรับรู้รายได้อาจช้ากว่าที่คาด ประการที่สาม ตลาดอาจให้ส่วนลดกับคำสั่งซื้อ DUV หากมองว่ามาจากกระบวนการผลิตรุ่นเก่าหรือภูมิภาคเฉพาะ ประการที่สี่ ข้อจำกัดการส่งออก การขยายกำลังการผลิตของลูกค้าที่ล่าช้า หรือการเลื่อนคำสั่งซื้ออาจลดความชัดเจนในอนาคต ประการที่ห้า การปรับตัวดีขึ้นของอัตรากำไรขั้นต้นอาจมาจากผลของส่วนผสมผลิตภัณฑ์แบบครั้งเดียว มากกว่าจากอำนาจในการกำหนดราคาที่ยั่งยืน ประการที่หก การเพิ่มคาดการณ์ทั้งปีอาจต่ำกว่าความคาดหวังของตลาดสรุป: การวิเคราะห์โครงสร้างคำสั่งซื้อของ ASML ท้ายที่สุดแล้วคือการประเมินคุณภาพของการเติบโต EUV แสดงถึงกระบวนการผลิตขั้นสูงและอุปสรรคในการเข้าสู่ตลาดที่สูง DUV แสดงถึงความยืดหยุ่นของรายได้และตัวแปรด้านภูมิภาค High-NA EUV แสดงถึงโรดแมปเทคโนโลยีถัดไป Installed Base Management แสดงถึงมูลค่าของเครื่องมือที่ติดตั้งแล้วและเสถียรภาพของอัตรากำไรขั้นต้น คุณไม่ควรดูเฉพาะคำสั่งซื้อรวมเท่านั้น และไม่ควรดูเฉพาะว่ารายได้รายไตรมาสสูงกว่าคาดการณ์หรือไม่ แนวทางที่แข็งแกร่งกว่าคือการแยกคำสั่งซื้อตามผลิตภัณฑ์ ลูกค้า ภูมิภาค รอบการส่งมอบ และแหล่งที่มาของอัตรากำไร จากนั้นเปรียบเทียบโครงสร้างนั้นกับความคาดหวังของตลาด หากโครงสร้างคำสั่งซื้อมีสุขภาพดีแต่การประเมินมูลค่าสูงอยู่แล้ว หุ้นก็ยังอาจอ่อนไหวต่อความผิดหวังเพียงเล็กน้อยได้ หากคุณติดตาม ASML ตลอดเวลา ควรวางบริษัทไว้ในห่วงโซ่อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ที่กว้างขึ้น แทนที่จะมุ่งเน้นเฉพาะผลประกอบการของบริษัทเดียว ผ่าน Biya คุณสามารถจัดระเบียบรายการเฝ้าติดตามที่ครอบคลุม ASML, Applied Materials, Lam Research, KLA, TSMC, NVIDIA และ Micron และเปรียบเทียบวันที่ประกาศผลประกอบการ สัดส่วนคำสั่งซื้อ อัตรากำไรขั้นต้น กฎการส่งออก และการเปลี่ยนแปลงการประเมินมูลค่า ผู้ใช้ที่เป็นไปตามข้อกำหนดการให้บริการในภูมิภาคที่เกี่ยวข้องยังสามารถ ดาวน์โหลดแอป เพื่อจัดการข้อมูลตลาดและการซื้อขายสินทรัพย์หลายประเภทได้ ความพร้อมให้บริการขึ้นอยู่กับสถานที่ตั้งของผู้ใช้ สถานะการยืนยันตัวตน กฎของแพลตฟอร์ม และกฎหมายและข้อบังคับที่เกี่ยวข้อง ข้อมูลข้างต้นเป็นเพียงการอภิปรายข้อมูลตลาดที่เปิดเผยต่อสาธารณะ ตรรกะของอุตสาหกรรม และโครงสร้างค่าธรรมเนียมเท่านั้น ไม่ถือเป็นคำแนะนำการลงทุนหรือการรับประกันผลตอบแทน
EUV สะท้อนอุปสงค์ในโหนดขั้นสูงและคุณภาพการเติบโตระยะยาวได้ดีกว่า ขณะที่ DUV สะท้อนอุปสงค์ในโหนดที่เติบโตเต็มที่ อุปสงค์ตามภูมิภาค และความยืดหยุ่นของรายได้ได้ดีกว่า ทั้งสองอย่างไม่สามารถทดแทนกันได้อย่างง่ายๆ หาก EUV แข็งแกร่งและ DUV มีเสถียรภาพ โดยปกติหมายความว่ามีทั้งการเติบโตของโหนดขั้นสูงและแรงสนับสนุนรายได้พื้นฐาน
High-NA EUV ต้องอาศัยการติดตั้ง การยอมรับจากลูกค้า การนำกระบวนการไปใช้ และการตรวจสอบความพร้อมสำหรับการผลิตปริมาณสูง ดังนั้นปริมาณการจัดส่งรายไตรมาสจึงไม่สามารถสะท้อนอุปสงค์ระยะยาวได้อย่างครบถ้วน ระบบรุ่นแรกๆ อาจถูกใช้เพื่อการวิจัยและพัฒนาและการตรวจสอบความถูกต้อง แรงหนุนรายได้ที่แท้จริงขึ้นอยู่กับการนำไปใช้โดยลูกค้าหลายรายและจังหวะการเร่งกำลังการผลิต
รายได้จาก Installed Base Management มาจากบริการและตัวเลือกภาคสนาม และสามารถช่วยลดความผันผวนของวัฏจักรคำสั่งซื้อระบบได้ รายได้นี้สะท้อนการใช้งานเครื่องมือที่ติดตั้งแล้ว อุปสงค์ในการอัปเกรด และความเหนียวแน่นของลูกค้า ขณะเดียวกันยังส่งผลต่ออัตรากำไรขั้นต้น กระแสเงินสด และคุณภาพรายได้ของ ASML
คำสั่งซื้อ DUV อาจได้รับผลกระทบจากข้อจำกัดด้านการส่งออก โดยเฉพาะระบบ immersion DUV ระดับไฮเอนด์บางประเภท นักลงทุนจำเป็นต้องแยกแยะอุปสงค์ตามภูมิภาค จังหวะการออกใบอนุญาต และอุปสงค์ทั่วโลกที่แท้จริง ความแข็งแกร่งของคำสั่งซื้อ DUV ในภูมิภาคหนึ่งไม่ควรถูกเทียบโดยตรงว่าเป็นความแข็งแกร่งในวงกว้างของโหนดที่เติบโตเต็มที่ทั่วโลก
*บทความนี้จัดทำขึ้นเพื่อวัตถุประสงค์ในการให้ข้อมูลทั่วไปเท่านั้น และไม่ถือเป็นคำแนะนำทางกฎหมาย ภาษี หรือคำแนะนำจากผู้เชี่ยวชาญอื่น ๆ จาก BiyaPay หรือบริษัทย่อยและบริษัทในเครือ และไม่ได้มีเจตนาเพื่อทดแทนการขอคำแนะนำจากที่ปรึกษาทางการเงินหรือผู้เชี่ยวชาญอื่นใด
เราไม่ให้คำรับรองหรือการรับประกันใด ๆ ไม่ว่าโดยชัดแจ้งหรือโดยนัย เกี่ยวกับความถูกต้อง ความครบถ้วน หรือความทันเวลาของเนื้อหาในสิ่งพิมพ์ฉบับนี้

